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超大矢高(Sag)硅材料微光學(xué)元器件

硅具有高折射率（n=3.4）、高硬度阻力、較低的溫度敏感性、較低密度（2.329 g/cm3）

在0°~80°出射角下實(shí)現(xiàn)高達(dá)4mm的超大矢高值(Sag)，最大限度提高硅材料光學(xué)器件數(shù)值孔徑（NA）

可實(shí)現(xiàn)大矢高偏心微透鏡陣列、閃耀光柵、啁啾陣列或集成棱鏡

通過(guò)精密劃切技術(shù)生產(chǎn)小微尺寸單只硅棱鏡、柱鏡等短波、中波紅外用途光學(xué)器件

技術(shù)指標(biāo)

以硅作為基底材料，加工微光學(xué)元器件，充用利用硅材料高折射率（n=3.4）、高硬度阻力和較低的溫度敏感性，較低密度（2.329 g/cm³）等材料特征
采用炬光科技獨(dú)有的晶圓級(jí)同步結(jié)構(gòu)化技術(shù)加工硅透鏡，在0°~80°出射角下實(shí)現(xiàn)高達(dá)4mm的超大矢高值(Sag)，最大限度地提高了硅材料光學(xué)器件所能達(dá)到的數(shù)值孔徑（NA）
可提供傳統(tǒng)工藝技術(shù)難以實(shí)現(xiàn)的先進(jìn)硅材料光學(xué)產(chǎn)品，如大矢高偏心微透鏡陣列、閃耀光柵、啁啾陣列或集成棱鏡，也可通過(guò)精密劃切技術(shù)生產(chǎn)小微尺寸單只硅棱鏡、柱鏡等短波、中波紅外用途光學(xué)器件
采用適配硅材料的膜系與優(yōu)化的鍍膜生產(chǎn)工藝，以保證產(chǎn)品性能及長(zhǎng)期可靠性。減反射膜可滿足R<0.2%，膜系可覆蓋<1200 nm波長(zhǎng)
大批量、低成本生產(chǎn)，從而滿足物聯(lián)網(wǎng)、生物傳感、智能終端等各類批量應(yīng)用場(chǎng)景的需求

利用炬光科技晶圓級(jí)同步結(jié)構(gòu)化制造技術(shù)加工的對(duì)稱和非對(duì)稱微結(jié)構(gòu)

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